等离子喷涂工艺

应用要求

等离子喷涂工艺需要高精准和稳定的等离子气流。此外，气体压力的监测对于等离子过程的良好控制也很重要。Bronkhorst可以提供适合此应用的质量流量控制器和压力控制器以及对等离子喷涂系统非常有效的定制解决方案。

重要议题

• 高精度
• 稳定控制
• 数字通信
• 完整紧凑的子系统

工艺方案

在特定的火炬中，通过例如等离子氩气产生等离子体流。在等离子射流中，温度将达到接近10000摄氏度。我们可以将粉末（有时是液体）引入等离子体射流中。由于高温，粉末将熔化并推向基材。在那里，熔化的液滴变平，迅速凝固并形成沉积物。引入的粉末可以由各种金属制成，这取决于层厚度、沉积物的功能或物理性质。等离子喷涂时的层厚范围为20微米至几毫米，这取决于工艺和粉末。大量技术参数会影响到基板上颗粒间的相互作用。例如火炬偏移、流速和能量输入等参数都很
重要。因为等离子体射流是由等离子体气体的受控流速产生的，所以流量控制器至关重要。监控压力对于控制系统和监测空的等离子气瓶非常重要。通常系统会加过滤器，以确保等离子喷涂过程不会涉及其它颗粒。