MOCVD 应用上的流量控制 | Bronkhorst

金属有机化学气相沉积（MOCVD）| 流量控制

金属有机化学气相沉积（MOCVD）是LED制造中的关键工艺，通过在晶圆上沉积超薄晶体层来制造高性能LED。要实现优化的均匀性和一致性，需对氢气等载气进行精确控制。 Bronkhorst提供优质的质量流量控制器，确保气体流量稳定且精确，实现优化工艺条件和提升产品质量。

使用流量控制器供应氢气可改善金属有机化学气相沉积（MOCVD）工艺，从而提高产品质量。在此，需要稳定的流量条件以及流量控制器对设置变化的快速响应。

为了提高MOCVD工艺的质量，进而提升LED的输出性能，Bronkhorst提供了EL-FLOW金属密封流量仪表，以集成到MOCVD设备中。

这些控制器调节氢载气流量，对工艺稳定性相当重要。流量直接影响LED元件的沉积速率，因此须进行精确控制。

针对此应用，我们使用了不同量程的EL-FLOW控制器，从20 sccm到20 slm不等。其金属对金属的密封设计确保了可靠的再密封性能，而高质量的表面处理则满足了半导体和太阳能制造的严苛标准。

此外，EL-PRESS金属密封压力控制器也是该装置的一部分。使用这些设备可实现稳定的氢气流量，对不断变化的工艺条件快速响应，从而支持性能稳定和工艺控制的改进。

Bronkhorst是一家提供全方位服务的公司，提供校准和维修服务。我们还提供现场服务，为客户提供优化设备使用建议，并分享流程改进的技巧。

“Bronkhorst将高品质的仪表与优质的服务相结合，使其在众多供应商中脱颖而出。”