半导体

半导体元件和器件的制造涉及五大工艺流程：光刻、化学气相沉积（CVD）、蚀刻、注入和扩散。Bronkhorst为半导体行业提供解决方案助您优化每一步。

随着产品不断向更小、更强大、更便捷的方向发展，半导体行业持续面临新的挑战。超薄层、更小的关键尺寸、新材料、3D结构以及对更高产量和生产率的持续需求，都推动对更紧密工艺自动化的需求。精确的测量和控制助您实现目标。

半导体市场的流量控制

在半导体行业，精度与支持相辅相成。Bronkhorst将精进的流体技术与全方位服务专业知识相结合，助您实现一致且高质量的成果。

应用案例

在用于LED制造的金属有机化学气相沉积（MOCVD）工艺中，Bronkhorst金属密封流量控制器可实现对载气的精确控制。Bronkhorst不仅提供流量控制器，还提供从校准到现场咨询的全方位服务支持，竭诚服务客户。

在前开式晶圆传送盒（FOUP）吹扫过程中采用Bronkhorst质量流量控制器，制造商可确保清洁度、降低污染风险并优化运营效率，满足当今半导体行业的高要求。

超临界流体工艺需要超越传统方法的测量技术。使用科里奥利质量流量计，您可实现稳定且精确的流量控制。即使在使用超临界流体时，物理条件快速变化，也能保持稳定。

Bronkhorst专注于优化流体控制技术。我们的仪表具有高精度，这对于化学气相沉积（CVD）、平板显示器（FPD）的喷涂以及原子层沉积（ALD）工艺相当重要。此外，Bronkhorst金属密封流量仪表可助您优化直接液体注入系统。

欧洲工艺，品质保证。Bronkhorst流量仪表在欧洲设计和制造，优质、可靠、符合行业标准。适合半导体工艺的需求。

我们在全球设有办事处并与合作伙伴携手，将全球覆盖与本地专业知识相结合。我们能为您提供针对您所在地区的定制化支持。

我们的工程师经验丰富，在流体测量和控制工艺方面拥有数十年的经验。他们了解您面临的挑战，与您密切合作，优化您的系统，实现精确且可重复的结果。