| 在半导体制造过程中，喷涂工艺被广泛用于光刻胶涂布、薄膜沉积、先进封装等环节。随着线宽尺寸的不断缩小和工艺复杂度的增加，流量与压力的控制精度对产品良率的影响日趋显著。无论是气体输送的稳定性，还是液体流量的可重复性，亦或是腔体压力的精确调节，都直接关系到喷涂质量的均匀性和一致性。因此，半导体行业对喷涂工艺中流量和压力的测控提出了较高的要求。 |  |
| Bronkhorst可为半导体喷涂工艺提供流量与压力测控方案。针对气体应用，可选用热式质量流量控制器，实现稳定的气体流量调节；针对液体介质，科里奥利质量流量计和超声波流量计能够对光刻胶、浆料等液体进行流量测量。在压力控制方面，EL-PRESS系列压力控制器可用于喷涂腔体或容器顶部压力的精确调节。此外，通过主从控制架构，可利用流量计反馈信号，由压力控制器执行调节，实现流量与压力的协同闭环控制。 |
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方案优势：测量精度和重复性较好，有助于稳定工艺结果；支持较高程度的自动化闭环控制，可减少人工操作波动；适用于气体和多种液体介质，工作压力范围覆盖从0.1 mbar绝压至700 bar；响应速度较快，支持数字通信；提供标准模拟信号及Profi-Bus等总线接口，方便系统集成；同时配备现场服务支持，便于客户日常维护。 |
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Bronkhorst乐于为半导体制造商在喷涂工艺的流量与压力测控环节提供可靠的技术支撑。 |
