热式质量流量计为半导体制造过程中的气相沉积而开发

最初，热式质量流量计和控制器是在1970年代为半导体制造过程中的气相沉积而开发的。由于市场需求以及在气体、液体和蒸汽输送方面引进新的更好产品的需要，Bronkhorst成为半导体、平板显示器和LED行业的主要供应商。针对化学气相沉积（CVD）、平板显示器喷涂（FPD）和原子层沉积（ALD）工艺，Bronkhorst可为直接液体注入系统提供金属密封流量仪表。

热式质量流量计应用案例

切割（激光）前在晶片上沉积保护层

金属有机化学气相沉积(MOCVD)

原子层沉积(ALD)

超临界流体定量给料和控制（如超临界二氧化碳清洗）

平板显示器(FPD)喷涂

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